舍弗勒技术股份两合公司申请层系统和构件专利, 提供一种独特的层系统

点击次数：67 发布日期：2025-02-04

金融界2025年1月30日消息，国家知识产权局信息显示，舍弗勒技术股份两合公司申请一项名为“层系统和构件”的专利，公开号CN119372600A，申请日期为2017年12月。

专利摘要显示，本发明涉及一种层系统(1)，其包括至少一个增附剂层(2a、2b)和多个布置在至少一个增附剂层(2a、2b)上的功能层(3、4、5、6)，其中，每个功能层(3、4、5、6)包括由包括第一金属成分的第一金属氮化物构成的第一纳米子层(3a、4a、5a、6a)和金属的第二纳米子层(3b、4b、5b、6b)，其中，每个功能层(3、4、5、6)具有在1nm至100nm的范围内的层厚d。本发明此外还涉及一种构件(100)，其包括金属的基底(10)和至少部分布置在基底(10)的表面上的层系统(1)。